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關于磁控濺射設備MSP-8in 推薦實用程序

發(fā)布時間:2024-12-12 點擊量:64

關于磁控濺射設備MSP-8in 推薦實用程序

該裝置是使用磁控管靶的金屬鍍膜裝置。用于8英寸晶圓等大面積樣品,以及多個樣品的同時處理。

MSP-8in的靶電極沿靶金屬表面形成多個同心磁場,通過捕獲該磁場中的電子,提高濺射靶金屬的等離子體離子密度。設定磁場的強度,使得沉積的金屬膜的厚度從靶的中心到外周是均勻的。

該產(chǎn)品是一套包括裝置本身、一種目標金屬(請指類型)、旋轉(zhuǎn)泵和 SUS 軟管。
該設備需要安裝和操作說明。

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MSP-8in 消耗品/零件清單

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MSP-8in [t=0.1mm]的
金靶材

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MSP-8in 的
Pt 靶材
[t=0.1mm]

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MSP-8in [t=0.5mm]的
銀靶

如果您需要其他目標類型,請聯(lián)系我們。
*該設備只能與貴金屬目標一起使用。
*Target 需要重新裝修工作。

對于任何其他維護/維修查詢,請通過服務查詢與我們聯(lián)系。

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由于本裝置是大容量、大面積的裝置,建議使用氬氣。

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濺射金屬粒子的比較

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Au:金
觀察面積:數(shù)千至10,000倍
Au-Pd:金鈀
觀察面積:10,000至50,000倍
適合低倍率觀察,對比度良好。

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Pt:鉑
觀察面積:10,000~50,000倍
Pt-Pd:鉑鈀
觀察面積:30,000~50,000倍
粒徑細小,常用于高倍率觀察。

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